Fotolithografie : Grundlagen und Anwendung in der Halbleitertechnologie

Opis bibliograficzny
Kolejni autorzy: Fedotov, J. A. (Redaktor), Pohl, H-J (Redaktor)
Format: Książka
Język:German
Wydane: Berlin ; Moskau : Verlag Technik, 1974
Wydanie:1. Auflage
Zapisy:1 zapisów
Opis
Opis fizyczny:336 S. : 205 Abb. ; 43 Tafeln
Sygnatura:[mehrbändig! Sign. s. bei den Bänden]